包括具有漫射体元件的光波导的照射系统以及用于至少部分地或分区段地生产和/或构造漫射体基体的方法

• 收藏
• 分享

专利权人:

肖特股份有限公司

发明人:

B·舒尔特海斯,H·拉瑟特,O·凯博,M·克雷默,J·麦因尔,L·威尔姆斯,J·格林

申请号：

CN201880063614.0

公开号：

CN111164474A

申请日:

2018.28.09

申请国别(地区):

CN

年份:

2020

代理人:

摘要：

本发明涉及一种照射系统(1),特别是用于医疗和/或诊断系统的照射系统,该照射系统(1)包括至少一个激光光源(10)和可以在其近端连接到和/或关联于至少一个激光光源(10)的光波导(30),并且包括在光波导(30)的远端处的漫射体元件(40),该漫射体元件(40)具有垂直于光波导的耦合表面延伸到漫射体元件中的纵向轴线,其中漫射体元件在其操作状态下在其有效长度(40.2)上在纵向轴线的侧向上发光,其中漫射体元件(40)包括至少一个漫射体基体(43),该漫射体基体(43)包含至少一个散射元件(43.6),其中该至少一个散射元件(43.6)沿着漫射体基体(43)的纵向轴线(43.2)基本平行于纵向轴线对齐或布置成与纵向轴线成一定角度,并且其中用于使沿着漫射体基体(43)的纵向轴线(43.2)的发射强度均匀化的构件设置在漫射体基体(43)的远端处和/或至少部分地或在其若干区段上围绕光波导(30)与漫射体基体(43)之间的过渡区域和/或漫射体基体(43)本身,其中照射系统在其操作状态下表现出与平均侧向发射强度的偏差至多为±50%、优选地不超过±30%,并且最优选地不超过±5%的侧向发射的强度分布。本发明还涉及一种用于至少部分地或分区段地生产和/或构造漫射体基体(43)的方法。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/