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化粧料用基剤およびこれを配合してなる化粧料
专利权人:
日油株式会社
发明人:
手塚 洋二,脇田 和晃,青木 佑介,円山 圭一
申请号:
JP2011019446
公开号:
JP5641336B2
申请日:
2011.02.01
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cosmetic exerting a long-term formulation stability by compounding a novel polyalkylene glycol derivative as a cosmetic base, provided that the polyalkylene glycol exerts excellent surface-activating performance as an emulsifier/solubilizer or as a dispersion system.SOLUTION: The cosmetic base provided herein comprises the polyalkylene glycol derivative represented by formula (1) (wherein EO is an oxyethylene group AO is a 3-4C oxyalkylene group, provided that EO and AO are bonded in a block form a, b and m each represents the average number of EO or AO moles added, provided that a+b is 0-30, m is 10-100, and the ratio by mass of AO to the total mass of EO and AO is 50-100 mass% and R1 represents a hydrogen atom or a 1-4C alkyl or acyl group).COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】乳化可溶化剤としても分散系としても優れた界面活性能を発揮する新規なポリアルキレングリコール誘導体を化粧料用基剤として配合することによって、長期間の配合安定性を有する化粧料を提供する。【解決手段】一般式(1)により示されるポリアルキレングリコール誘導体からなる化粧料用基剤を提供する。EOはオキシエチレン基であり、AOは炭素数3~4のオキシアルキレン基であり、EOとAOはブロック状に結合している。a+bおよびmは、それぞれ、EOおよびAOの平均付加モル数であり、a+bは0~30、mは10~100を満たし、EOとAOの合計質量に対するAOの質量割合は、50~100質量%である。R1は、水素原子もしくは炭素数1~4のアルキル基またはアシル基である。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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