A method of removing a radiation-polymerized cosmetic coating from a nail comprising applying a solvent system comprising a hydroxyl-containing solvent and a non-hydroxyl-containing solvent to the polymerized nail coating. (Meth) acrylic oligomer, (meth) acrylic monomer, or a mixture of (meth) acrylic oligomer and (meth) acrylic monomer (the oligomer or monomer has an acidic or basic ionic group), and a photoinitiator. A first package comprising a polymerizable nail coating composition comprising； and a solvent system for removing the polymerizable nail coating composition after the polymerizable nail coating composition is applied to a nail and radiation cured, A two package system comprising a second package comprising a solvent system comprising a hydroxyl containing solvent and a non-hydroxyl containing solvent. Further disclosed is a radiation curable coating composition for human nails.ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを重合ネイルコーティングに塗布することを含む、放射線重合化粧コーティングを爪から除去する方法。（メタ）アクリルオリゴマー、（メタ）アクリルモノマー、又は（メタ）アクリルオリゴマー及び（メタ）アクリルモノマーの混合物（前記オリゴマー又はモノマーは酸性又は塩基性のイオン性基を有する。）、並びに光開始剤を含む重合性ネイルコーティング組成物を含む第１パッケージ；及び前記重合性ネイルコーティング組成物を爪に塗布し、放射線硬化した後、前記重合性ネイルコーティング組成物を除去するための溶媒システムであって、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを含む第２パッケージ、を含む２パッケージシステム。更に、ヒトの爪のための放射線硬化性コーティング組成物を開示する。
