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c-Met 저해제 및 IGF-1R 저해제를 포함하는 병용 투여용 약학 조성물
专利权人:
SAMSUNG ELECTRONICS CO.; LTD.
发明人:
SHIM, SEON HUIKR,심선희,LEE, JI MINKR,이지민,JUNG, SOO YEONKR,정수연,KWON, WOO SUNKR,권우선,KIM, KYUNG AHKR,김경아,KIM, JEONG MINKR,김정민,RA, SEON YEONGKR,라선영,LEE, WON SEOKKR,이원석
申请号:
KR1020140163792
公开号:
KR1020160061200A
申请日:
2014.11.21
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
Provided are a pharmaceutical composition for a combination therapy containing a c-Met inhibitor and IGF-1R inhibitor as active components for preventing and/or treating cancer, use of the IFG-1R inhibitor for increasing (overcoming resistance) an effect of the c-Met inhibitor, and a use of IGF-1R as a resistant marker against the c-Met inhibitor.COPYRIGHT KIPO 2016c-Met 저해제 및 IGF-1R 저해제를 유효성분으로 포함하는 암의 예방 및/또는 치료를 위한 병용 투여용 약학 조성물, IGF-1R 저해제의 c-Met 저해제 효능 증진(저항성 극복) 용도, 및 c-Met 저해제에 대한 저항성 마커로서의 IGF-1R의 용도가 제공된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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