In a surface acoustic wave atomization device, a simple configuration stably supplies liquid to the atomization region on the substrate surface in a fixed amount and restricts the liquid distribution on the substrate surface. Achieves suppression of deterioration of electrodes and the like. The apparatus (1) includes a piezoelectric substrate (3) having a pattern electrode (2) on the surface (S), and a liquid supply member (4) for supplying a liquid (M) to the surface (S). This is an apparatus for atomizing the liquid (M) supplied to S) by means of surface acoustic waves (W), and is located between the liquid supply member (4) and the surface (S) of the piezoelectric substrate (3). M) is provided with a minute gap (11) in the region (A1) that is desired to be guided and is provided with a large gap (12) in the region (A2) where the liquid (M) is not desired to be supplied. Using the tension difference, the liquid (M) is supplied to the atomization region (30) in the region separated from the pattern electrode (2) on the surface (S) of the piezoelectric substrate (3). The liquid (M) can be stably supplied by the minute gap (11), and the distribution of the liquid (M) can be limited by the large gap (12).弾性表面波霧化装置において、簡単な構成により、液体を基板表面の霧化領域まで一定量ずつ安定に供給すると共に基板表面における液体の分布を制限し、安定で効率の良い霧化および交差指電極等の劣化抑制を実現する。本装置（１）は、パターン電極（２）を表面（Ｓ）に有する圧電基板（３）と、表面（Ｓ）に液体（Ｍ）を供給する液供給部材（４）とを備え、表面（Ｓ）に供給される液体（Ｍ）を弾性表面波（Ｗ）によって霧化する装置であり、液供給部材（４）と圧電基板（３）の表面（Ｓ）との部材間にあって、液体（Ｍ）を保持して誘導したい領域（Ａ１）には微小ギャップ（１１）を設け、液体（Ｍ）を供給したくない領域（Ａ２）には大きいギャップ（１２）を設け、ギャップの大小による表面張力差を利用して液体（Ｍ）を圧電基板（３）の表面（Ｓ）におけるパターン電極（２）から離間した領域にある霧化領域（３０）に供給する。微小ギャップ（１１）によって液体（Ｍ）を安定に供給でき、大きいギャップ（１２）によって液体（Ｍ）の分布を制限できる。
