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雑草処理装置
专利权人:
スズキ株式会社;株式会社エムスクエア・ラボ
发明人:
河合 眞,加藤 百合子
申请号:
JP20170067566
公开号:
JP2018166459(A)
申请日:
2017.03.30
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
【課題】畦畔のような柔らかい土壌の雑草を容易に処理することができる雑草処理装置を提供する。【解決手段】雑草処理車両1は、自重で雑草に踏圧を加えるローラ4を有する踏圧機3と、自律走行可能な走行体2とを備え、走行体2は、踏圧機3を放出または回収可能なガイド板を備えた機体11と、走行輪12L、12Rと、走行輪12L、12Rを駆動する走行用モータ13L、13Rとを有する。【選択図】図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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