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irradiation apparatus and irradiation method for depositing a dose in a target volume.
专利权人:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
发明人:
OLIVER HEID
申请号:
BR112012021292
公开号:
BR112012021292A2
申请日:
2011.02.02
申请国别(地区):
BR
年份:
2016
代理人:
摘要:
Patent: irradiation apparatus and irradiation method for depositing a dose in a target volume. The invention relates to an irradiation apparatus (11) for depositing a dose distribution in a target volume (13) to be irradiated comprising: - an accelerator device (27) for providing a particle beam (15) in order to radiate the target volume (13); a scanning device (25,23) for modifying a property of the particle beam (15) such that the particle beam (15) is successively directed to different locations at a predefined scan volume (19) and is then , explored in the sweep volume (19) during the operation of the irradiation apparatus (11). The scanner (25,23) is designed to: - scan the scan volume (19) along a defined scan path (21) configured independently of the target volume (13); and adjusting the dose distribution to be deposited on the target volume (13) by modulating a particle beam intensity (15) when the particle beam (15) is scanned along the scan path (21). The invention further relates to an irradiation method corresponding to the irradiation apparatus.patente de invenção: aparelho de irradiação e método de irradiação para depositar uma dose em um volume-alvo. a invenção refere-se a um aparelho de irradiação (11) para depositar uma distribuição de dose em um volume-alvo (13) a er irradiado, que compreende: - um dispositivo acelerador (27) para fornecer um feixe de partícula (15) a fim de irradiar o volume-alvo (13); - um dispositivo de varredura (25,23) para modificar uma propriedade do feixe de partícula (15), tal que o feixe de partícula (15) é sucessivamente direcionado às diferentes localizações em um volume de varredura (19) predefinido e é, então, explorado no volume de varredura (19) durante a operação do aparelho de irradiação (11). o dispositivo de varredura (25,23) é projetada para: - explorar o volume de varredura (19) ao longo de um percurso de varredura (21) definido configurado independentemente do volume-alvo (13); e - ajustar a distribuição de d
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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