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用于影响和/或探测磁性颗粒的设备和方法
专利权人:
皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人:
S·彼德雷尔,T·f·萨特尔,T·克内普,T·M·布祖格
申请号:
CN201080040232.X
公开号:
CN102573623A
申请日:
2010.09.06
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及用于影响和/或探测视场中的磁性颗粒的MPI(磁性颗粒成像)设备和方法。不是沿单个时间消耗的高密度轨迹移动FFP(无场点),提出使用具有前进相位的多个低密度轨迹,其中,每个所述低密度轨迹具有不同地位于视场内的闭合曲线的形式。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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