地盤への硫酸イオンの溶出が抑制された地盤注入工法
- 专利权人:
- 富士化学株式会社;東亜建設工業株式会社
- 发明人:
- 笹原 茂生,松田 貴文,大野 康年
- 申请号：
- JP20160157404
- 公开号：
- JP2017036659(A)
- 申请日:
- 2016.08.10
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】少なくとも珪酸ソーダ及び硫酸を含有する地盤注入用固結材を地盤に注入する地盤注入工法であって、地盤への硫酸イオンの溶出が抑制された地盤注入工法を提供する。【解決手段】少なくとも珪酸ソーダ及び硫酸を含有する地盤注入用固結材を地盤に注入する地盤注入工法であって、前記地盤注入用固結材の注入に先立ち、カルシウム含有水溶液を注入することを特徴とする地盤注入工法。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
