A skin care procedure device and method are provided. The skin care procedure method comprises: a contact step of making a skin regeneration device come into contact onto skin tissue on which a procedure is to be performed such that the end portion of a microneedle formed in the skin regeneration device is located within the epidermal layer of skin tissue and a high-frequency power providing step of providing high-frequency power to the microneedle such that the temperature of the end portion of the microneedle increases to 40-45°C.La présente invention concerne un dispositif et un procédé de procédure de soins de la peau. Le procédé de procédure de soin de la peau comprend : une étape de contact consistant à amener un dispositif de régénération cutanée à entrer en contact sur un tissu cutané sur lequel une procédure doit être effectuée de telle sorte que la partie dextrémité dune micro-aiguille formée dans le dispositif de régénération cutanée soit située à lintérieur de la couche épidermique de tissu cutané et une étape de fourniture de puissance à haute fréquence consistant à fournir une puissance à haute fréquence à la micro-aiguille de telle sorte que la température de la partie dextrémité de la micro-aiguille augmente à 40-45° C.피부 미용 시술 기기 및 방법이 제공된다. 상기 피부 미용 시술 방법은, 피부 재생 기기에 형성된 마이크로 니들(needle)의 단부(end portion)가 시술 대상이 되는 피부조직의 표피층 내에 위치하도록 상기 피부 재생 기기를 상기 피부조직 상에 접촉시키는 접촉 단계, 및 상기 마이크로 니들의 단부의 온도가 40℃ 내지 45℃까지 상승하도록 상기 마이크로 니들에 고주파 전력을 제공하는 고주파 전력 제공 단계를 포함한다.
