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处理装置
专利权人:
赛诺龙美容有限公司
发明人:
J·肯尼迪,J·于
申请号:
CN201280017059.0
公开号:
CN103547314B
申请日:
2012.03.27
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
皮肤处理装置包括在一端部处具有处理头部和在另一端部处具有施配器头部的主体。所述处理头部包括包含用于发射电磁辐射的至少一个光源的壳体,所述电磁辐射具有用于处理一种或多种皮肤状况的所需特性。皮肤接触面置于壳体的一端部处并且适于将从光源发射的电磁辐射传递至使用者的皮肤。振动器直接或间接地接触壳体的另一端部从而导致皮肤接触面振动。施配器头部包括用于施配所需物质的施配组件,其用于处理一种或多种皮肤状况。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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