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Masking fragrance composition for hair deforming agent containing thioglycolic acid or salt or derivative thereof
专利权人:
OGAWA & CO LTD;小川香料株式会社
发明人:
山田 祐人,石津 武士,YAMADA YUTO,ISHIZU TAKESHI
申请号:
JP2018168529
公开号:
JP2020040902A
申请日:
2018.09.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
An object of the present invention is to provide a fragrance composition for masking a surgical odor generated when a hair deforming agent containing thioglycolic acid or the like is applied to hair and a residual reactive odor. SOLUTION: 1 to 50% by mass of one or two or more kinds of fragrances selected from Group A (allyl amyl glycolate, dihydromyrcenol, florazone, citronellol, etc.), Group B (Stemon, Tonalide, α-Damascon, 0.1 to 70% by mass of one or more fragrances selected from the group consisting of anisaldehyde and the like, and one or a group selected from the group C (allylcyclohexanepropionate, yayala, cis-jasmon, citronellyl nitrile, etc.) or A fragrance composition containing 0.01 to 30% by mass of two or more fragrances, which is a masking agent for a hair deforming agent containing thioglycolic acid or a salt thereof or a derivative thereof. . [Selection diagram] None【課題】チオグリコール酸等を含む毛髪変形剤を毛髪に施術した際に発生する施術臭、さらには残存する反応臭をマスキングするための香料組成物の提供。【解決手段】A群(アリルアミルグリコレート、ジヒドロミルセノール、フロラゾン、シトロネロール等)から選ばれる1種又は2種以上の香料1~50質量%、B群(ステモン、トナリド、α-ダマスコン、アニスアルデヒド等)から選ばれる1種又は2種以上の香料0.1~70質量%、およびC群(アリルシクロヘキサンプロピオネート、ヤラヤラ、シス-ジャスモン、シトロネリルニトリル等)から選ばれる1種又は2種以上の香料0.01~30質量%を含有する香料組成物であって、チオグリコール酸もしくはその塩またはその誘導体を含む毛髪変形剤用のマスキング剤であることを特徴とする香料組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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