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去甲氧基姜黄素金属盐衍生物及其用途
专利权人:
石磊;王之敏
发明人:
石磊,王之敏
申请号:
CN201510066879.4
公开号:
CN105985229A
申请日:
2015.02.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
本发明公开了去甲氧基姜黄素金属盐衍生物及其用途,它的结构式为:其中,R1是甲基或任意选用的低级直链烷基R1=(CH2)sCH3,s=1-3,或总碳原子不超过4的支链烷基或其它烃基;R2是甲基或任意选用的低级直链烷基R2=(CH2)mCH3,m=1-2,或总碳原子不超过3的支链烷基或其它烃基;n=3-6,R3是甲基或任意选用的低级直链烷基R3=(CH2)xCH3,x=1-2,或总碳原子不超过3的支链烷基或其它烃基;R4、R5或R8是氢或任意选用的低级直链烷基R=(CH2)yCH3,y=1-2,或总碳原子不超过3的支链烷基,或碳原子数不超过3的其它烃基;R6、R7是氢或卤族原子;M包括但不限于Li、Na、K,本发明化合物具有更好的抗肿瘤作用,特别适合胶质瘤的治疗。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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