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METHOD FOR CULTIVATING PLANT AND PLANT CULTIVATION DEVICE
专利权人:
SHARP CORP;OSAKA UNIV;シャープ株式会社;国立大学法人大阪大学
发明人:
TATSUMI NAOYUKI,辰巳 直行,FUJI HIROSHI,藤 寛,AKAMATSU FUMIMITSU,赤松 史光,KOBAYASHI AKIO,小林 昭雄,KURIMOTO SHUJI,栗本 修滋,SUDA KEITO,須田 慶人,FUJIYAMA KAZUHITO,藤山 和仁,OKAZAWA ATSUSHI,岡澤 敦司,HIRATA KAZUMASA,平田 收正
申请号:
JP2010128958
公开号:
JP2013162747A
申请日:
2010.06.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plant cultivation device for improving a growth rate of a plant by cultivating the plant in a high pressure environment different from a natural environment and for achieving plant cultivation under a high pressure environment.SOLUTION: In a method for cultivating a plant, the plant is placed and cultivated under a condition at a pressure of 1.5-10 atmospheres. A plant cultivation device 1 includes a cultivation chamber 10, and a compressor 20 supplying compressed air into the cultivation chamber. A carry-in opening 30 is provided on a sidewall 16 of the cultivation chamber 10 so that a material is carried in/out to/from the cultivation chamber via the carry-in opening 30, which is provided with a hemispheric cover 31 protruding toward the inside of the cultivation chamber 10. The cover 31 closes the carry-in opening 30 by being in contact, via a packing 32, with an inner surface of the sidewall 16 surrounding the carry-in opening 30. The cultivation chamber 10 has an internal pressure higher than an atmospheric pressure by causing the compressor 20 to supply compressed air into the cultivation chamber 10 while closing the carry-in opening 30.【課題】自然環境とは異なる高圧環境下で植物を栽培することによって、植物の成長率を向上させる。また、高圧環境下での植物栽培を実現するための植物栽培装置を提供する。【解決手段】本発明の植物栽培方法は、1.5気圧以上10気圧以下の圧力条件下に植物を置き、該植物を栽培する方法である。また、本発明の植物栽培装置1は、栽培室10と、該栽培室に対して圧縮空気を送り込むコンプレッサ20とを備えている。栽培室10の側壁16には、室内外への資材の搬入および搬出を行うための搬入口30が設けられており、この搬入口30には、栽培室10の内側へ向かって突出した半球形状のふた31が取り付けられている。ふた31は、間にパッキン32を介して搬入口30の周囲の側壁16の内面と接触することによって搬入口30を塞ぐ。この状態でコンプレッサ20によって圧縮空気を送り込むと、栽培室10内の気圧は大気圧より大きくなる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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