The present invention is either at least one first sensor (13) is mounted or mountable, comprising a control or regulating device (11), surgical instrument, an endoscope specifically, the a control system for a cleaning device (10) for cleaning, control or regulating device (11), controls the cleaning process of the cleaning apparatus according to the measured value of the at least one first sensor (13) (10) or to adjust to a control system. The present invention further relates to a method for controlling or regulating the cleaning and / or processing of the corresponding cleaning devices and surgical instruments. Control system according to the present invention, either the at least one second sensor (14) is mounted or mountable, the auxiliary monitor (12) is provided, the auxiliary monitor device (12), the control or regulating device (11) or it is electrically connected, or is electrically connectable, is replaced with at least one first sensor (13) and / or the control or regulating device the measurement data of the second sensor (11) characterized in that it is designed to.本発明は、少なくとも1つの第1センサ(13)が取り付けられているか、または取り付け可能な、制御または調節装置(11)を備えた、手術器具、具体的には内視鏡、を洗浄する洗浄装置(10)のための制御システムであって、制御または調節装置(11)が、少なくとも1つの第1センサ(13)の測定値に応じて洗浄装置(10)の洗浄プロセスを制御または調節する、制御システムに関する。本発明はさらに、対応する洗浄装置および手術器具の洗浄および/または処理を制御または調節するための方法に関する。本発明に係る制御システムは、少なくとも1つの第2センサ(14)が取り付けられているか、または取り付け可能な、補助監視装置(12)が設けられ、補助監視装置(12)が、制御または調節装置(11)に電気的に接続されているか、または電気的に接続可能であり、少なくとも1つの第1センサ(13)および/または第2センサの測定データを制御または調節装置(11)と交換するように設計されていることを特徴とする。
