您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

DEVICE AND METHOD FOR PARTICLE BEAM PRODUCTION
专利权人:
IONBEAM APPLICATIONS S.A.;이온빔 어플리케이션스 에스.에이.
发明人:
JONGEN YVES,용겐, 이브스
申请号:
KR1020127001330
公开号:
KR1020120099619A
申请日:
2010.06.24
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention relates to a pulsed beam particle accelerator which can be used for particle radiation therapy. More particular, a device and method are provided to control the number of particles within a beam pulse. The particle accelerator comprises means for varying the number of particles within each beam pulse of said pulsed ion beam from a minimum value to a maximum value as function of the value of a beam control parameter. For each particle irradiation the required number of particles for each beam pulse is controlled by defining a value for said beam control parameter based on calibration data.본 발명은, 입자 방사선 요법을 위해 사용될 수 있는 펄스 비임 입자 가속기에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 비임 펄스 내의 입자 수를 제어하기 위한 방법 및 장치가 제공된다. 입자 가속기는 비임 제어 파라미터의 값의 함수로서 최소값부터 최대값까지 상기 펄스 이온 비임의 각 비임 펄스 내의 입자 수를 변화시키기 위한 수단을 포함한다. 각 입자 조사에 대하여, 각 비임 펄스에 대해 필요한 입자 수는 캘리브레이션 데이터에 기초하여 상기 비임 제어 파라미터를 위한 값을 정의함으로써 제어된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充