Röntgenstrahlquelle (14, 122, 134) mit einer Kaltkatode (79), wobei die Kaltkatode (79) eine gekrümmte Emissionsoberfläche (80, 124) aufweist, die in der Lage ist, Elektronen zu emittieren, und einer Anode (72), wobei die Anode (72) von der Katode (79) getrennt ist, wobei die Anode (72) in der Lage ist, Röntgenstrahlen (16) in Reaktion auf ein Bombardement mit Elektronen, die von der gekrümmten Emissionsoberfläche (80, 124) emittiert werden, zu emittieren, wobei die Kaltkatode (79) eine Vielzahl von Emissionseinrichtungen (84), die auf einem Substrat (86) angeordnet sind, und einen Gatterleiter (92) umfasst, der benachbart zu der Vielzahl von Emissionseinrichtungen (84) angeordnet ist, und wobei die Vielzahl von Emissionseinrichtungen (84) betriebsfähig ist, Elektronen zu emittieren, wenn eine Vorspannung an den Gatterleiter (92) angelegt ist, wobei die Elektronen die Anode bei einem Brennfleck der Anode (72) bombardieren, wobei die Vielzahl von Emissionseinrichtungen (84) einen ersten Satz von Emissionseinrichtungen (84), wobei...X-ray beam source (14, 122, 134) witha cold cathode (79), wherein the cold cathode (79) a curved emitting surface (80, 124), which is able to emit electrons, andan anode (72), wherein the anode (72) of the cathode (79) is separated, wherein the anode (72) is capable of x-rays (16) in response to a bombardment with electrons, which are of the curved emitting surface (80, 124) are emitted to emit,the cold cathode (79) a plurality of emission directions (84) which, mounted on a substrate (86) are arranged and a gate conductor (92), of the adjacent to the plurality of emission directions (84) is arranged, and wherein the plurality of emission directions (84) is operable to emit electrons, when a bias voltage at the gate conductor (92) is applied,the electrons the anode in the case of a focal spot of the anode (72) bombardment, wherein the plurality of emission directions (84)a first set of emission directions (84), wherein..