含六个三氟甲基基团的氟硼二吡咯衍生物及其制备和应用
- 专利权人:
- 福州大学
- 发明人:
- 刘见永,马家林,赵伟桐
- 申请号：
- CN201610557217.1
- 公开号：
- CN106008581A
- 申请日:
- 2016.07.15
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种含六个三氟甲基基团的氟硼二吡咯衍生物及其制备和应用，该衍生物的化学结构式为：。通过将三氟甲基基团引入到氟硼二吡咯光敏剂中，可改变光敏药物的物理化学特性，提高光敏药物的药效，改变其药代动力学特性，提高光敏药物的生物利用度和代谢的稳定性。而且该化合物的合成方法简单，原料易得，成本低廉，产率较高，容易提纯，有利于工业化生产。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
