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オルメサルタンメドキソミルの製造法
专利权人:
DAINIPPON PRINTING CO LTD
发明人:
SUGAWARA KAZUYUKI,菅原 一幸,OKADA KAZUYUKI,岡田 和之,OYAMA TETSUYA,大山 哲也,ONOZAWA TAKASHI,小野澤 隆
申请号:
JP2014147373
公开号:
JP2016023157A
申请日:
2014.07.18
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing high purity olmesartan medoxomil.SOLUTION: Provided is a method for producing olmesartan medoxomil comprising: a step a) where trityl-olmesartan medoxomil and acid are reacted in a non-water soluble organic solvent to obtain the precipitation of olmesartan medoxomil and a solution of triphenylcarbinol a step b) where water or water and a water soluble organic solvent are added to the reaction system to extract the olmesartan medoxomil into a water layer and the triphenylcarbinol into an organic layer, and thereafter the organic layer is removed a step c) where a base is added to the water layer to obtain the precipitation of the olmesartan medoxomil and a step d) where the olmesartan medoxomil is recovered.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】 高純度のオルメサルタンメドキソミルを製造する方法を提供すること。【解決手段】 a)トリチルオルメサルタンメドキソミルと酸を、非水溶性有機溶媒中で反応させ、オルメサルタンメドキソミルの沈殿及びトリフェニルカルビノールの溶液を得る工程;b)上記反応系に水または水と水溶性有機溶媒を加えてオルメサルタンメドキソミルを水層に、トリフェニルカルビノールを有機層に抽出後、有機層を除去する工程;c)上記水層に塩基を加えてオルメサルタンメドキソミルの沈殿物を得る工程:およびd)オルメサルタンメドキソミルを回収する工程を含むオルメサルタンメドキソミルの製造方法。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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