您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Eg5 및 VEGF 유전자의 발현을 억제하기 위한 조성물 및 방법
专利权人:
发明人:
申请号:
KR20107021929
公开号:
KR101397407B1
申请日:
2009.03.05
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
This invention relates to compositions containing double-stranded ribonucleic acid (dsRNA) in a SNALP formulation, and methods of using the compositions to inhibit the expression of the Eg5 and Vascular Endothelial Growth Factor (VEGF), and methods of using the compositions to treat pathological processes mediated by Eg5 and VEGF expression, such as cancer.본 발명은 SNALP 제형 중에 이본쇄 리보핵산(dsRNA)을 함유하는 조성물 및 당해 조성물을 사용하여 Eg5 및 혈관 내피 성장 인자(VEGF)의 발현을 억제하는 방법 및 당해 조성물을 사용하여 Eg5 및 VEGF 발현에 의해 매개되는 병리학적 과정, 예를 들어, 암을 치료하는 방법에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
相关专利

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充