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肌の手入れ用のすすぎ洗い可能なマスク型化粧品組成物
专利权人:
エルブイエムエイチ レシェルシェ
发明人:
ジョンシエレ, クレール
申请号:
JP2009504798
公开号:
JP5780623B2
申请日:
2007.04.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
This invention, the skin, for example the skin of the face, regards the cosmetics composition of rinse off mask type in order to care. This invention with preservation water type, designates that substantially, at least the high water absortion power polymer or copolymer of 1 kinds of particle form of complete hydration state is included as feature in regard to the cosmetics composition of rinse off mask type in order to care the skin, the above-mentioned particle, drying or in nonaqueous harmony state, 5 - 100 millimicrons, 20 - 50 millimicrons, 20 - 30 millimicrons, has mean diameter profitably more desirably. The composition which is applied on the skin is a very refreshing effect, after use it is possible to wash away easily.< Selective figure >It is not本発明は、肌、例えば顔の肌、を手入れするためのリンスオフマスク型の化粧品組成物に関する。本発明は、肌を手入れするためのリンスオフマスク型の化粧品組成物に関し、保水型で、実質的に完全な水和状態の粒子形態の、少なくとも1種の高吸水性ポリマー又はコポリマーを含むことを特徴とし、上記粒子が、乾燥又は非水和状態で、5~100μm、有利には20~50μm、より好ましくは20~30μm、の平均粒径を有する。肌に施用される組成物は、非常に清涼な効果があり、使用後は容易に洗い流すことが可能である。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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