温室黄瓜加行密植新技术
- 专利权人:
- 韩浩良
- 发明人:
- 韩浩良
- 申请号：
- CN201310227210.X
- 公开号：
- CN103329698A
- 申请日:
- 2013.06.01
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 日光温室黄瓜生产，前期采用加行密植栽培法，可充分提高土地利用率，增产效果显著。加行密植栽培法，是在温室越冬茬黄瓜常规栽培的基础上，以原栽培行为主，在主栽行间加栽1行，实行矮化整枝，增加前期密度，从而达到提高前期产量，获得高效的目的，采用该法栽培，可使黄瓜的前期产量提高40％～50％，产值增加30％左右。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
