Composition for forming resist lower layer film

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专利权人:

Nakaatsu Yoshimura

发明人:

Nakaatsu Yoshimura,Yousuke Konno

申请号：

US12599694

公开号：

US08334338B2

申请日:

2008.05.21

申请国别(地区):

US

年份:

2012

代理人:

摘要：

A composition for forming a resist lower layer film, which contains (A) a resin, (B) a butyl ether group-containing crosslinking agent and (C) a solvent.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/