The present invention provides spinous process implant and associated methods. In one aspect of the invention the implant limits the maximum spacing between the spinous processes. In another aspect of the invention, a spacer has at least one transverse opening to facilitate tissue in-growth. In another aspect of the invention, an implant includes a spacer and separate extensions engageable with the spacer. In another aspect of the invention. instrumentation for inserting the implant is provided In other aspects of the invention, methods for treating spine disease are provided.La présente invention porte sur un implant pour apophyse épineuse et sur des procédés associés. Sous un aspect de linvention, limplant limite lespacement maximal entre les apophyses épineuses. Sous un autre aspect de linvention, un espaceur comporte au moins une ouverture transversale destinée à faciliter une croissance intérieure de tissu. Sous un autre aspect de linvention, limplant comprend un espaceur et des extensions séparées engageables avec lespaceur. Sous un autre aspect de linvention, on décrit une instrumentation destinée à introduire limplant. Sous dautres aspects de linvention, on décrit des procédés de traitement dune maladie de la colonne vertébrale.
