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清洗系统、清洗单元和清洗方法
- 专利权人:
- 高进股份有限公司
- 发明人:
- 樋口浩和,手岛英彦,大宫由孝,石川博纪,藤田政树,古川淳,佐佐木富也,三上裕晃,中村荣一郎
- 申请号：
- CN201980003649.X
- 公开号：
- CN110996758A
- 申请日:
- 2019.25.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种提高了清洗力的清洗系统、清洗单元和清洗方法。清洗系统包括:管状溶液储存器,其储存pH调节溶液,在上述pH调节溶液上的上部空间限定有中空空间;充气路径,其连接至上述溶液储存器的顶部,并以恒定的调节压力向上述中空空间中输送二氧化碳气体;二氧化碳气瓶,其连接到上述充气路径的输入侧;溶液输送路径,其连接到上述溶液储存器的下部,用于在上述调节压力下将上述pH调节溶液输送到待清洗装置的管道;清洗溶液引入路径,其连接到上述溶液储存器,用于将原始清洗溶液引入到上述溶液储存器中,并产生上述pH调节溶液;原液罐,其设置在上述清洗溶液引入路径的输入侧,配置成储存上述原始清洗溶液;以及填充压力调节器及溶液输送压力调节器,上述填充压力调节器设置在上述充气路径中,上述溶液输送压力调节器设置在上述溶液输送路径中,并配置成通过用上述填充压力调节器和上述溶液输送压力调节器调节上述二氧化碳气瓶的上述填充压力来获得上述调节压力,其中用上述pH调节溶液清洗上述待清洗装置的上述管道。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
