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플라즈마의 유동을 제공하기 위한 장치
专利权人:
LINDE AG.
发明人:
HOLBECHE THOMAS BICKFORD,올베헤 토마스 빅포드
申请号:
KR1020147001002
公开号:
KR1020140060277A
申请日:
2012.06.12
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
A device for forming at an ambient atmospheric pressure a gaseous plasma comprising active species for treatment of a treatment region. The device comprises a plasma cell for forming the gaseous plasma for treating the treatment region. The plasma cell comprises an inlet for receiving gas from a source and an outlet for discharging active species generated in the cell. A dielectric substrate made of a polyimide encloses the flow path for gas conveyed from the inlet to the outlet and an electrode is formed on the dielectric substrate for energising gas along the flow path to form the active species. A protective coating or lining is located on an inner surface of the dielectric substrate for resisting reaction of the active species generated in the plasma cell with the material of the dielectric substrate.본 발명은, 치료 영역의 치료를 위한 활성종을 포함하는 가스상 플라즈마를 주위 대기압에서 형성하기 위한 장치(10)를 제공한다. 장치는 치료 영역을 치료하기 위한 가스상 플라즈마를 형성하기 위한 플라즈마 셀(12)을 포함한다. 플라즈마 셀은 공급원(18)으로부터 가스를 수용하기 위한 입구(16), 및 셀 내에 발생된 활성종을 방출하기 위한 출구(20)를 포함한다. 폴리이미드로 제조된 유전체 기판(22)이 입구로부터 출구로 운반되는 가스를 위한 유동 경로 둘레에 둘러싸이고, 유동 경로를 따른 가스에 에너지를 공급하여 활성종을 형성하기 위해 전극(26)이 유전체 기판 상에 형성된다. 플라즈마 셀(12) 내에 발생된 활성종과 유전체 기판(22)의 재료의 반응을 저지하기 위해 보호 코팅 또는 라이닝(32)이 유전체 기판(22)의 내측 표면 상에 위치된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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