微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法
- 专利权人:
- 江苏海迅实业有限公司
- 发明人:
- 仲路和
- 申请号：
- CN200710022290.X
- 公开号：
- CN101050338A
- 申请日:
- 2007.05.11
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2007
- 代理人:
- 江平
- 摘要：
- 本发明提供一种微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液，其包括磨料I、磨料II、表面活性剂、pH调节剂以及去离子水；各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％至40％，磨料II为5％至20％，表面活性剂为0.01％至0.6％，pH调节剂为1％至6％，去离子水为余量；前述各组分混合液的pH值为10至12；可用于微晶玻璃的表面抛光加工中，有效减少微晶玻璃抛光后的表面划伤，降低微晶玻璃抛光后的表面粗糙度，能够满足制造计算机硬盘基板的需要，且抛光速率快，抛光液不腐蚀设备，使用的安全性能高。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
