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PLASMA-SURGICAL APPARATUS COMPRISING SPACER
专利权人:
OVESCO ENDOSCOPY AG;オヴェスコ エンドスコピー アーゲー
发明人:
HO CHI-NGHIA,チ-ンギア ホー,ANHOECK GUNNAR,グンナル アンヘック,GABOR CONRAD,ガボァー コンラート,SCHURR MARC O,マルク オー.シュァー,GOTTWALD THOMAS,トーマス ゴットヴァルト,チ-ンギア ホー,マルク オー.シュァー
申请号:
JP2015218342
公开号:
JP2016101492A
申请日:
2015.11.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an attachment or a (tissue) spacer for a surgical apparatus.SOLUTION: The present invention relates to a spacer in the form of an attachment 15 to be mounted on an endoscope 1, the attachment being formed like a cap, enclosing a spatial volume 16 and being made of an insulating material. The attachment is further equipped with a mounting device/an adapter 6 designed to be coupled to a distal end of the endoscope. The attachment comprises an area 11 designed to be in contact with a target tissue and further forms an aperture enclosing a surface area. Within the spatial volume, there is arranged an electrode 9 comprising a distal end 9b and a proximal end 9a, the distal end of the electrode having a prescribed minimum distance to the closest point of the surface area.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】プラズマ外科手術装置のアタッチメント又は(組織)スペーサを提供する。【解決手段】内視鏡1に装着されるアタッチメント15の形でのスペーサに関する。アタッチメントは、キャップ状に形成され、空間容積16を囲み、絶縁材料から作成される。アタッチメントは、内視鏡の遠位端に結合するよう設計された装着用装置/アダプタ6を更に備える。アタッチメントは、対象組織と接触するよう設計された領域11を備え、表面領域を囲む開口を更に形成する。空間容積内に、遠位端9bと近位端9aとを備える電極9が配置され、電極の遠位端は表面領域の最も近い点までの所定最小距離を有する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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