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不適切な血液潅流、部分除神経、組織の損失、疼痛、浮腫、炎症、及び感染を伴う損傷を治療するための電磁装置
专利权人:
カニェド ドランテス ルイス
发明人:
カニェド ドランテス ルイス
申请号:
JP2007506093
公开号:
JP5175088B2
申请日:
2005.04.01
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
< Topic >The skin damage and the internal damage, for example low it is flow, but the existence possible myocardium (the hibernation myocardium) method and the electromagnetic device which it remedies are offered as still.SolutionsThis invention, the inadequate blood flow, the part removal nerve, nerve cell apotoshisu, organization loss, painfully, the edema, and/or regards the equipment in order to remedy the lesion of the body which accompanies infection. The equipment of this invention is used, although the non invasive characteristic anesthetic characteristic electromagnetic field outside (EMF) it impresses in the territory where it is far from the region of lesion of the patient who has lesion. Although the above-mentioned electromagnetic field, makes blood vessel formation, pulse tube formation, nervous tissue playback, and bone formation increase, reconstructs wounding restoration process, anesthetic characteristic, causes the anti- edema and anti- inflammation characteristic action, and/or restores wounding it is effective. The component of the static place with frequency, and several micro Tesla to under approximately 300Hz and approximately maximum strength between 0.3 and approximately 0.8mT is included by the electromagnetic field, from several hertz, as for this, from independently or approximately 40 approximately 80T or to approximately 800 gauss being uniform from approximately 400, with the static place it is possible to impress.< Selective figure >Figure 1【課題】皮膚損傷及び内部損傷、例えば低灌流であるが依然として生存可能な心筋(冬眠心筋)を治療する方法及び電磁装置を提供する。【解決手段】本発明は、不適切な血液潅流、部分除神経、神経細胞アポトーシス、組織損失、疼痛、浮腫、及び/又は感染を伴う身体の病変を治療するための機器に関する。本発明の機器は、外部の非侵襲性の鎮痛性電磁場(EMF)を病変のある患者の病変の部位から離れた領域に印加するのに用いられる。上述の電磁場は、血管形成、脈管形成、神経組織再生、及び骨形成を増大させ、創傷修復過程を復元し、鎮痛性、抗浮腫、抗炎症性作用を生じ、及び/又は創傷を修復するのに有効である。電磁場には、数ヘルツから約300Hz未満までの周波数、並びに数マイクロテスラと、約0.3及び約0.8mTの間の最大強度との間の静的な場の成分が含まれ、これは、単独で又は約40から約80T又は約400から約800ガウスまでの均一で静的な場と共に印加することができる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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