高深宽比X射线标靶及其用途
- 专利权人:
- FEI公司
- 发明人:
- N·W·帕克,M·W·乌特劳特,L·F·T·夸曼,T·G·米勒
- 申请号：
- CN201510398704.3
- 公开号：
- CN105105779B
- 申请日:
- 2015.17.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 公开了高深宽比X射线标靶及其用途。X射线标靶、使用所述X射线标靶的方法以及具有用于执行使用所述X射线标靶的方法的指令的计算机程序产品。所述X射线标靶包括由软X射线产生材料制成的衬底以及由硬X射线产生材料制成的高深宽比结构。所述硬X射线产生材料被嵌入在所述衬底中、形成在所述衬底上、被从所述衬底边缘向外悬臂伸出,或者为其任意组合。所述高深宽比结构包括多个布置在一个或多个网格或阵列中的高深宽比结构,并且所述一个或多个网格或阵列之一中的所述高深宽比结构被布置以形成Hadamard矩阵结构。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
