Kosmetische Zusammensetzungen, die in einem geeigneten Träger mindestens eine Substanz enthalten, die mindestens eine Struktureinheit der allgemeinen Formel (I) aufweist (I), worin R1 für ein H-Atom oder -CH3, -CH(CH3)2, -CH2CH(CH3)2, -CH(CH3)CH2CH3, -CH2-COOH, -CH2CH2-COOH, -CH2-CO(NH2), -CH2CH2-CO(NH2), CH2OH, -CH(OH)CH3, -CH2SH, -CH2CH2-S-CH3, -(CH2)4-N+H3, -(CH2)3-NH-C=N+H2(NH2), (a), (b), (c), (d), -CH2-S-S-CH2-CH(NH2)COOH, -(CH2)3NH-C(O)NH2 -CH2CH2C(O)NH(CH2CH3), -CH2CH2-SH, -CH2-S(O)-CH2-CH=CH2, -CH2-OPO3H2, -CH2CH2CH2NH2, (e), (f), (g), stehen und X für ein physiologisch verträgliches Anion oder den m-ten Teil eines m-fach geladenen Anions, vorzugsweise Chlorid, Bromid, lodid, 1/2 Sulfat, 1/3 Citrat, 1/3 Phosphat, Methosulfat, p-Toluolsulfonat steht, ermöglichen ein dauerhafteres Styling zu, ohne dabei die Nachteile eines Dauerwellprozesses in Kauf nehmen zu müssen.Cosmetic compositions which, in a suitable carrier, contain at least one substance of the general formula (I), wherein R1 represents an H atom or -CH3, -CH(CH3)2, -CH2CH(CH3)2, -CH(CH3)CH2CH3, -CH2-COOH, -CH2CH2-COOH, -CH2-CO(NH2), -CH2CH2-CO(NH2), CH2OH, -CH(OH)CH3, -CH2SH, -CH2CH2-S-CH3, -(CH2)4-N+H3, -(CH2)3-NH-C=N+H2(NH2), (a), (b), (c), (d), -CH2-S-S-CH2-CH(NH2)COOH, -(CH2)3NH-C(O)NH2 -CH2CH2C(O)NH(CH2CH3), -CH2CH2-SH, -CH2-S(O)-CH2-CH=CH2, -CH2-OPO3H2, -CH2CH2CH2NH2, (e), (f), (g), and X represents a physiologically compatible anion or the m-th part of an m-times charged anion, preferably chloride, bromide, iodide, 1/2 sulfate, 1/3 citrate, 1/3 phosphate, methosulfate, p-toluolsulfonate, permit more permanent styling without having to accept the disadvantages of a permanent waving process.Linvention concerne des compositions cosmétiques qui, dans un support approprié, contiennent au moins une substance présentant au moins un motif structural de formule générale (I), dans laquelle R1 représente un atome H ou -CH3, -CH(CH3)2, -CH2CH(CH3)2, -CH(CH3)CH2CH3, -CH2-COOH, -CH2CH2-COOH, -CH2-CO(NH2),
