There is provided a compound of formula <； RTI ID = 0.0 >； (I ') & In this formula, R 5 is selected from the group consisting of -H, -OM, -COOM, -NH 2 , -SO 3 M, (C 1 -C 4 ) alkyl, and halogen； A is i) a radical of formula (i)； And (Wherein R <； 7 >； is selected from the group consisting of -OM and -COOM, and n is 0, 1 or 2) ii) a radical of the formula (ii) or (iii) Wherein R 8 is selected from the group consisting of-H, (C 1 -C 4 ) alkyl； M is independently selected from the group consisting of H, an alkali metal, and NH <； 4+ >；). Lt； RTI ID = 0.0 >； C <； / RTI >； Also provided are methods for the production thereof, compositions comprising same, and uses thereof for correcting the deficiency of metals in plants.하기 화학식 (I')의 화합물이 제공된다:상기 식에서,R5는 -H, -OM, -COOM, -NH2, -SO3M, (C1-C4)알킬 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되고；A는i) 하기 화학식 (i)의 라디칼； 및(상기 식에서, R7은 -OM 및 -COOM으로 이루어진 군으로부터 선택되고, n은 0, 1 또는 2임)ii) 하기 화학식 (ii) 또는 하기 화학식 (iii)의 라디칼(상기 식에서, R8은 -H, (C1-C4)알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고；M은 독립적으로 H, 알칼리 금속 및 NH4+로 이루어진 군으로부터 선택됨)로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 3개의 C 원자를 갖는 라디칼이다.또한, 이의 제조를 위한 방법, 이를 포함하는 조성물 및 식물에서의 금속의 결핍을 보정하기 위한 이의 용도가 제공된다.
