MANDANICI, Daniel,SUTTIN, Zachary, B.,LIN, Keng-Min,SANCHEZ, Olga
申请号：
USUS2016/046354
公开号：
WO2017/027593A1
申请日:
2016.08.10
申请国别(地区):
US
年份:
2017
代理人:
摘要：
A method of forming an implant to be implanted into living bone. The implant includes titanium. The method includes deforming at least a portion of a surface of the implant to produce a first micro-scale topography. The method further includes removing at least a portion of the surface to produce a second micro-scale topography superimposed on the first topography. The second micro-scale topography is generally less coarse than the first micro-scale topography. The method further includes adding a submicron topography superimposed on the first and second micro-scale topographies, the submicron topography including tube-like structures.L'invention concerne un procédé de formation d'un implant à implanter dans un os vivant. L'implant comprend du titane. Le procédé consiste à déformer au moins une partie d'une surface de l'implant pour produire une première topographie à l'échelle microscopique. Le procédé consiste en outre à retirer au moins une partie de la surface pour produire une seconde topographie à l'échelle microscopique superposée sur la première topographie. La seconde topographie à l'échelle microscopique est généralement moins grossière que la première topographie à l'échelle microscopique. Le procédé consiste en outre à ajouter une topographie de taille inférieure au micron superposée sur les première et seconde topographies à l'échelle microscopique, la topographie de taille inférieure au micron comprenant des structures de type tube.
