WOLFE, Benjamin,PASKALOV, George,JARVIS, Rick,PUCHACZ, Jerzy, P.
申请号：
USUS2016/056289
公开号：
WO2017/066129A1
申请日:
2016.10.10
申请国别(地区):
US
年份:
2017
代理人:
摘要：
Methods and apparatuses to activate, modify, and sanitize the surfaces of granular, powdered, or seed material placed in a continuous flow of a low- temperature, reduced-pressure gas plasma. Said plasma may be created with radio- frequency power, using capacitive-inductive, or a combination of both types of discharge. The plasma is generated at pressures in the 0.01 to 10 Torr range. RF frequency ranges from 0.2 to 220 MHz, and correspond to a plasma density between about ne x 108 - ne x 1012 or 0.001 to 0.4 W/cm3. Inserts and electrodes may be temperature controlled to control process conditions. RF discharge may be pulsed or modulated by different frequency in order to stimulate energy exchange between gas plasma and process material. The apparatuses may be grounded, biased and mechanically activated (e.g., vibration, rotation, etc.).L'invention concerne des procédés et appareils permettant d'activer, de modifier et d'aseptiser les surfaces d'un matériau granulaire, pulvérulent ou d'ensemencement placé dans un flux continu d'un plasma gazeux à pression réduite et basse température. Ledit plasma peut être créé avec une énergie à radiofréquence, au moyen d'une décharge à capacité-induction, ou d'une combinaison de l'un et l'autre des types de décharge. Le plasma est produit à des pressions de l'ordre de 0,01 à 10 Torr. La fréquence RF va de 0,2 à 220 MHz, et correspond à une densité de plasma comprise entre environ ne x 108 - ne x 1012 ou 0,001 et 0,4 W/cm3. Les inserts et électrodes peuvent être régulés en température pour commander les conditions de procédé. La décharge RF peut être pulsée ou modulée par une fréquence différente afin de stimuler l'échange d'énergie entre le plasma gazeux et le matériau de traitement. Les appareils peuvent être reliés à la terre, polarisés et activés mécaniquement (par exemple, vibration, rotation, etc.).
