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Lotion and Cream Composition for Treating Atopic dermatitis and Diaper Rash and Poison Skin Trouble
专利权人:
NEWBORN SKIN
发明人:
LEE, MI RA,이미라,LEE, MI RAKR
申请号:
KR1020170019374
公开号:
KR1017747880000B1
申请日:
2017.02.13
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a composition for lotion and cream. According to the present invention, components of lotion and cream with troubled skin relief functions for atopy, diaper rash, and saliva poisoning can effectively relieve troubled skin such as atopy, diaper rash, and saliva poisoning in infants without adverse reactions, by forming lotion and cream using natural components containing Centella asiatica (L.) Urb.본 발명은 로션 및 크림 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 의한 아토피 및 기저귀 발진과 침독 등 피부트러블 개선 효과가 있는 로션 및 크림의 성분은 병풀(Centella asiatica)을 포함하는 천연성분 물질로 로션 및 크림을 형성하여 줌으로써 영유아의 아토피 및 기저귀 발진과 침독 등 피부 트러블을 거부반응없이 효과적으로 개선하여 줄 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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