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COMPOSITION FOR ORAL CAVITY
专利权人:
LION CORP;ライオン株式会社
发明人:
MARUYAMA MASATATSU,丸山 真達,OTA HIROTAKA,太田 博崇
申请号:
JP2017189368
公开号:
JP2017222720A
申请日:
2017.09.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for oral cavity having high effect to chemically remove a biofilm causing dental caries.SOLUTION: There is provided a composition for oral cavity which comprises: (A) 0.01 to 2 mass% of an anionic surfactant selected from alkyl sulfoacetic acid salts having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms and (B) 0.01 to 1 mass% of an acyltaurine salt having an acyl group having 10 to 20 carbon atoms, wherein the blending ratio (A)/(B) of (A) component and (B) component is 0.01 to 50 by mass ratio. There is provided a composition for oral cavity which comprises: (A) 0.01 to 2 mass% of an anionic surfactant selected from alkyl sulfoacetic acid salts having an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms and (B') 0.01 to 1 mass% of an acylsarcosine salt having an acyl group having 10 to 20 carbon atoms, wherein the blending ratio (A)/(B') of (A) component and (B') component is 0.01 to 50 by mass ratio.SELECTED DRAWING: None【課題】う蝕の原因となるバイオフィルムを化学的に除去する効果の高い口腔用組成物を提供する。【解決手段】(A)アルキル基の炭素数が10~20であるアルキルスルホ酢酸塩から選ばれるアニオン界面活性剤を0.01~2質量%と、(B)アシル基の炭素数が10~20であるアシルタウリン塩を0.01~1質量%とを含有し、(A)成分と(B)成分との配合比率を示す(A)/(B)が質量比として0.01~50であることを特徴とする口腔用組成物。 (A)アルキル基の炭素数が10~20であるアルキルスルホ酢酸塩から選ばれるアニオン界面活性剤を0.01~2質量%と、(B’)アシル基の炭素数が10~20であるアシルサルコシン塩を0.01~1質量%とを含有し、(A)成分と(B’)成分との配合比率を示す(A)/(B’)が質量比として0.01~50であることを特徴とする口腔用組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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