A method for improving bioactivity and/or biodegradation time of a collagen surgical implant and collagen surgical implants having such improved properties. A gas-cluster ion-beam (GCIB) is formed in a reduced-pressure chamber, a collagen surgical implant is introduced into the reduced-pressure chamber, and at least a first portion of the surface of said collagen surgical implant is irradiated with a GCIB-derived beam.La présente invention concerne un procédé d'amélioration de la bioactivité et/ou de la durée de biodégradation d'un implant chirurgical à base de collagène, ainsi que des implants chirurgicaux à base de collagène possédant lesdites propriétés améliorées. Un faisceau de grappes d'ions (GCIB) est formé dans une enceinte sous pression réduite, un implant chirurgical à base de collagène est introduit dans ladite enceinte sous pression réduite et au moins une première partie de la surface dudit implant chirurgical à base de collagène est exposée à un faisceau GCIB.
