A substrate includes a double-network polymer system including a cross-linked, covalently-bonded polymer and a reversible, partially ionicly-bonded polymer, wherein the substrate has a moisture level less than or equal to 15 percent of the total weight of the substrate, and wherein the substrate includes a latent retractive force. A method for manufacturing a substrate includes producing a double-network hydrogel including a cross-linked, covalently-bonded polymer and a reversible, ionicly-bonded polymer； elongating by force the double-network hydrogel in at least one direction； dehydrating while still elongated the double-network hydrogel to form a substantially-dehydrated double-network polymer system； and releasing the force to produce the substrate.Selon la présente invention, un substrat comprend un système de polymère à double réseau comprenant un polymère réticulé, lié de façon covalente et un polymère réversible, partiellement à liaison ionique, le substrat ayant un taux d'humidité inférieur ou égal à 15 pour cent du poids total du substrat, et le substrat comprenant une force de retrait latente. Un procédé de fabrication d'un substrat comprend la production d'un hydrogel à double réseau comprenant un polymère réticulé, lié de façon covalente et un polymère réversible, lié de façon ionique ； l'allongement par force de l'hydrogel à double réseau dans au moins une direction ； tout en étant encore allongé, la déshydratation de l'hydrogel à double réseau pour former un système de polymère à double réseau sensiblement déshydraté ； et la libération de la force pour produire le substrat.
