经修饰的Cκ和CH1结构域
- 专利权人:
- 天境生物科技(上海)有限公司
- 发明人:
- 王永强,方磊,王正毅,郭炳诗,臧敬五
- 申请号：
- CN201980001527.7
- 公开号：
- CN110573531A
- 申请日:
- 2019.15.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 提供了具有经修饰的Cκ和CH1结构域的抗体和抗原结合片段,该经修饰的Cκ和CH1结构域仍然能够配对,但是与未经修饰的野生型CH1和Cκ结构域相比其配对减少。这些修饰对于制备具有两个不同对的Cκ和CH1结构域的双特异性抗体特别有用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
