A method for manufacturing a surgical implant. A metal layer is deposited onto a polyaryletherketone (PAEK) substrate by generating a series of pulses using a high power impulse magnetron sputtering process. Each pulse is applied in a series of micro pulse steps comprising (i) micro pulse on steps ranging from 10 µs to 100 µs and (ii) micro pulse off steps ranging from 5 µs to 400 µs at a repetition frequency ranging from 50-2000 Hz with 2 micropulses to 20 micropulses per repetition, a total pulse on time ranging from 25 µs to 800 µs for 5 minutes to 300 minutes at averaged power ranging from 200 W to 3000 W. The series of pulses are performed in a unipolar mode or a bipolar mode.La présente invention concerne un procédé de fabrication dune prothèse chirurgicale. Une couche métallique est déposée sur un substrat de polyaryléthercétone (PAEK) en générant une série dimpulsions à laide dun processus de pulvérisation par magnétron à impulsions haute puissance. Chacune des impulsions est appliquée en une série détapes de micro-impulsion comprenant (i) des étapes dactivation de micro-impulsions sétendant de 10 µs à 100 µs et (ii) des étapes de désactivation de micro-impulsions sétendant de 5 µs à 400 µs à une fréquence de répétition sétendant de 50 à 2000 Hz avec 2 micro-impulsions à 20 micro-impulsions par répétition, une durée dactivation dimpulsions sétendant de 25 µs à 800 µs pendant 5 minutes à 300 minutes à une puissance moyenne comprise entre 200 W et 3000 W. La série dimpulsions est mise en œuvre en mode unipolaire ou en mode bipolaire.
