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Implant
专利权人:
Kikusui Chemical Industries Co., Ltd.;SHOFU INC.
发明人:
申请号:
EP12175922.9
公开号:
EP2545881A1
申请日:
2012.07.11
申请国别(地区):
EP
年份:
2013
代理人:
摘要:
An implant fixture is made from ceramics containing zirconia. The implant fixture has monoclinic percentage of 1 volume % or less. The implant fixture includes a buried portion having an arithmetic average roughness Ra in the range of 1 to 5 µm. The zirconia content accounts for 86 mass % or more in the implant fixture. The implant fixture contains alumina and/or yttria. Further, the implant fixture has a sintered grain size of 0.45 µm or less.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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