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粒子線照射システム
专利权人:
三菱電機株式会社
发明人:
本田 泰三,池田 昌広
申请号:
JP2011549088
公开号:
JPWO2012117538A1
申请日:
2011.03.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
In the corpuscular ray lighting system, from at high speed, it designates that the dose distribution whose precision is high with lighting target is given as purpose. Deflecting the corpuscular ray, with the deflection electromagnet for scan and expanding the energy width of the corpuscular ray, the energy width enlargement equipment it scans in order which to form SOBP in the depth direction which is lighting direction of the corpuscular ray of lighting target it had, the energy width enlargement equipment was formed, field to the whole lighting, of depth direction of lighting target extending in order to form SOBP of depth direction, field to the whole lighting, of the above-mentioned cross direction of the above-mentioned lighting target extending in order to make step condition move, tried the lighting spot which the corpuscular ray forms in lighting target, to control the deflection electromagnet for scan.粒子線照射システムにおいて、より高速で、照射目標により精度の高い線量分布を与えることを目的とする。粒子線を偏向して走査する走査用偏向電磁石と、粒子線のエネルギー幅を拡大して照射目標の粒子線の照射方向である深さ方向にSOBPを形成するためのエネルギー幅拡大機器とを備え、エネルギー幅拡大機器は、照射目標の深さ方向の照射領域全体に亘って深さ方向のSOBPを形成するよう構成されており、粒子線が照射目標に形成する照射スポットを、上記照射目標の上記横方向の照射領域全体に亘ってステップ状に移動させるよう走査用偏向電磁石を制御するようにした。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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