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METHODS OF DECREASING SEBUM PRODUCTION IN THE SKIN
专利权人:
NOVAN; INC.
发明人:
BAUMAN, SUSANNE,STASKO, NATHAN
申请号:
EP11849414
公开号:
EP2651381A4
申请日:
2011.12.15
申请国别(地区):
EP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Provided herein are methods of using gaseous nitric oxide and/or at least one nitric oxide source to or decrease sebum production in the skin of a subject. In some embodiments, the nitric oxide source includes small molecule and/or macromolecular NO-releasing compounds.La présente invention concerne des procédés dutilisation doxyde nitrique gazeux et/ou dau moins une source doxyde nitrique pour diminuer la production de sébum dans la peau dun sujet. Dans certains modes de réalisation, la source doxyde nitrique comprend des composés libérant NO à petite molécule et/ou macromoléculaires.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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