Partikelbestrahlungsgerät, Strahlmodifikatorvorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung mit einer Junctionabschlussextensionszone
Strahlmodifikatorvorrichtung (700), umfassend:streuende Teilbereiche (720), in welchen vertikal auf eine Belichtungsoberfläche (701) der Strahlmodifikatorvorrichtung (700) auftreffende Partikel von einer vertikalen Richtung abgelenkt sind, wobei die streuenden Teilbereiche (720) Dellen (721) aufweisen, die durch Vorsprünge (722) getrennt sindabschattende Teilbereiche (710), die keine Dellen (721) aufweisen und in welchen eine gesamte Durchlässigkeit für die Partikel niedriger ist als in den streuenden Teilbereichen (720) und wobei die abschattenden und streuenden Teilbereiche (710, 720) sich längs einer lateralen Richtung parallel zu der Belichtungsoberfläche (701) abwechseln und ein Flächenverhältnis der abschattenden Teilbereiche (710) zu den streuenden Teilbereichen (720) längs der lateralen Richtung variiert, wobeiin der Strahlmodifikatorvorrichtung (700) eine gesamte Durchlässigkeit für die Partikel sich längs einer lateralen Richtung parallel zu der Belichtungsoberfläche (701) verändert.Beam modifier apparatus (700), comprising:scattering partial regions (720), in which vertically to a exposure surface (701) of the beam modifier apparatus (700) impacting particles are deflected by a vertical direction, the scattering of the partial regions (720) have indentations (721) which, by means of projections (722) are separatedshading partial regions (710), the no depressions (721) and in which a total permeability for the particles is lower than in the scattering regions (720) and wherein the shading and scattering of the partial regions (710, 720) extending along a lateral direction parallel to the exposure surface (701) alternate, and an area ratio of the shading of the partial regions (710) to the scattering regions (720) varies along the lateral direction.in the beam modifier apparatus (700) a total permeability for the particles are along a lateral direction parallel to the exposure surface (701) is changed.
