抗生物膜形成的低温等离子体涂层
- 专利权人:
- 密苏里大学管委会
- 发明人:
- 孙红敏,陈猛
- 申请号：
- CN201380012058.1
- 公开号：
- CN104204099A
- 申请日:
- 2013.01.14
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 王达佐`洪欣
- 摘要：
- 本发明为液体接触装置的表面处理方法，其中在低温下通过等离子体沉积技术，将连续的有机硅或有机硅和氧等离子体涂层施加于应用所述方法的一种和多种装置的至少一个接触面。所述等离子体涂层抑制细菌附着于所述装置，并防止在所述装置上形成生物膜。所述涂层优选具有约1nm至约100nm的厚度，更优选约20nm至约30nm的厚度。三甲基硅烷和氧气混合物的近似比为1：4。本发明证明相比未经涂覆表面上形成的生物膜中的细菌细胞，涂有有机硅或有机硅/O2的表面上的细菌细胞对抗生素处理更为敏感。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
