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一种大垄双行浅沟地膜覆盖结构
- 专利权人:
- 富裕县气象局
- 发明人:
- 薛瑶,张兴林,从治宇,孙砳石
- 申请号：
- CN202020406711.X
- 公开号：
- CN212232414U
- 申请日:
- 2020.03.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型涉及农业覆膜技术领域，具体为一种大垄双行浅沟地膜覆盖结构，包括农田，所述农田的上方堆积有第一垄堆，所述第一垄堆的顶部开设有两个种植用的浅沟，两个所述浅沟的内部均种植有农作物，所述第一垄堆的外表面覆盖有第一地膜。该大垄双行浅沟地膜覆盖结构，通过在第一垄堆上开设浅沟，并在浅沟中直接育种，然后在第一垄堆上直接覆盖第一地膜，第一地膜可以大幅度提高浅沟内部的温度，以及第一垄堆内部的温度，有利于农作物的发芽和生长，在出苗及幼苗生长期增温效果明显，对出全苗及加速发育极为有利，为后期生长发育奠定良好基础，本种植方法，效果相当于育苗移栽，但成本低，可操作性强，易推广，且没有地膜覆盖的白色污染。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
