The present disclosure relates generally to the field of cryoablation. In particular, the present disclosure relates to cryoablation systems (e.g., cryospray systems, cryogenic ablation, cryosurgery systems etc.) that prevent or significantly inhibit cryospray gases from accumulating and progression distally beyond a specific region within a body lumen.La présente invention concerne de manière générale le domaine de la cryoablation. En particulier, la présente invention concerne des systèmes de cryoablation (par exemple, des systèmes de cryopulvérisation, des systèmes dablation cryogénique, des systèmes de cryochirurgie, etc.) qui empêchent ou inhibent significativement laccumulation et la progression des gaz de cryopulvérisation en direction distale au-delà dune région spécifique à lintérieur dune lumière corporelle.