Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V.
发明人:
Klaus-Dieter Weltmann,Thomas von Woedtke,Manfred Stieber,Stefan Horn
申请号：
DE102017105702
公开号：
DE102017105702A1
申请日:
2017.03.16
申请国别(地区):
DE
年份:
2017
代理人:
摘要：
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung, ein System und ein Verfahren zur antimikrobiellen Behandlung bei der Durchführung von Eingriffen in Körpern sowie ein Computerprogramm.Es wird eine Vorrichtung (11) zur antimikrobiellen Behandlung bei der Durchführung von Eingriffen, insbesondere minimal-invasiven Eingriffen, in Körpern zur Verfügung gestellt. Diese umfasst einen Grundkörper (1) zum teilweisen Einführen in einen Körper und weiterhin wenigstens eine in zumindest einem Abschnitt des Grundkörpers (1) angeordnete Plasmaquelle (12). Die Plasmaquelle (12) weist wenigstens eine zumindest teilweise und insbesondere vollständig mit einem Dielektrikum (10) bedeckte Hochspannungselektrode (9) auf, welche dazu eingerichtet ist, bei Anlegen einer elektrischen Spannung und im Zusammenwirken mit einer zweiten Elektrode mittels dielektrisch behinderter Entladung ein Plasma zu erzeugen.The invention relates to a device, a system and a method for antimicrobial treatment when performing procedures in a body as well as a computer program. An apparatus (11) for antimicrobial treatment is provided in the performance of procedures, particularly minimally invasive procedures, in the body. This comprises a basic body (1) for partial introduction into a body and furthermore at least one plasma source (12) arranged in at least one section of the basic body (1). The plasma source (12) has at least one high-voltage electrode (9) which is at least partially and in particular completely covered by a dielectric (10) and is adapted to supply a plasma upon application of an electrical voltage and in cooperation with a second electrode by means of dielectrically impeded discharge produce.
