提高青蒿中青蒿素含量的组合物及其施用方法
- 专利权人:
- 孙光新
- 发明人:
- 孙光新
- 申请号：
- CN201310567708.0
- 公开号：
- CN103636419A
- 申请日:
- 2013.11.13
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 牛山`陈少凌
- 摘要：
- 本发明公开了一种提高青蒿中青蒿素含量的组合物及其施用方法；所述组合物包括脱落酸和甲基茉莉酸；所述组合物中脱落酸的浓度为1～50μM，甲基茉莉酸的浓度为1～50μM。施用时，在青蒿植株生长至开花前8～12天，用所述组合物喷洒植株。即可。本发明组合物的活性成分脱落酸与甲基茉莉酸具有显著的协同增效作用，能使青蒿素合成途径更多重要基因的表达量提高，从而导致了青蒿素含量更大程度的提高；同时，由于脱落酸与甲基茉莉酸来源广泛，价格低廉，因此具有广阔的市场前景。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
