РОВИНСОН Джон М. Мл. (US),ЛИМБЕРНЕР Чарльз Дж. (US),АБРАХАМ Шибу (US),ТОМПСОН Анджела (US)
申请号：
RU2013129819/15
公开号：
RU2013129819A
申请日:
2012.01.18
申请国别(地区):
RU
年份:
2015
代理人:
摘要：
1. A method of surface sterilization, comprising treating said surface with steam containing peracetic acid at a concentration of at least about 3500 ppm, from about 57 ° C to about 75 ° C. 2. The method of claim 1, wherein said surface consists of plastic. The method of claim 1, wherein said surface is polyethylene terephthalate. The method of claim 1, wherein said treatment is carried out in the absence of a hydrogen peroxide initiator. The method of claim 1, wherein the concentration of peracetic acid is at least about 3750 ppm. The method of claim 1, wherein the concentration of peracetic acid is from about 3750 ppm. up to approximately 10,000 ppm. 7. The method of claim 6, wherein the concentration of peracetic acid is from about 3750 ppm to about 4250 ppm. The method of claim 1, wherein the steam is less than 100% saturated. 9. The method of claim 8, wherein the vapor saturation is less than about 85% .10. The method of claim 9, wherein the vapor saturation is from about 75% to about 85%.1. Способ стерилизации поверхности, включающий обработку указанной поверхности паром, содержащим перуксусную кислоту с концентрацией по меньшей мере приблизительно 3500 м.д., при от приблизительно 57°С до приблизительно 75°C.2. Способ по п. 1, где указанная поверхность состоит из пластмассы.3. Способ по п. 1, где указанная поверхность является полиэтилентерефталатом.4. Способ по п. 1, где указанную обработку проводят в отсутствие инициатора пероксида водорода.5. Способ по п. 1, где концентрация перуксусной кислоты составляет по меньшей мере приблизительно 3750 м.д.6. Способ по п. 1, где концентрация перуксусной кислоты составляет от приблизительно 3750 м.д. до приблизительно 10000 м.д.7. Способ по п. 6, где концентрация перуксусной кислоты составляет от приблизительно 3750 м.д до приблизительно 4250 м.д.8. Способ по п. 1, где пар насыщен менее чем на 100%.9. Способ по п. 8, где насыщение пара составляет менее чем приблизительно 85%.10. Способ по п. 9, где насыщение пара состав
